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  • GMD2000/4頭孢克洛混懸液研磨分散機
    頭孢克洛混懸液研磨分散機

    GMD2000系列頭孢克洛混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑微米級0.2-2μm,可以確保高速分散乳化的穩定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質混合。德國進口分散乳化機由定/轉子系統生的剪切力使得溶質轉移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

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  • GMD2000/4中成藥管線式研磨分散機
    中成藥管線式研磨分散機

    中成藥管線式研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設備,是一項新的技術革新。研磨分散機是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機一體化的設備,先研磨后分散,物料研磨后又瞬間進行分散,避免了物料的二次團聚。 膠體磨和分散機的一體化設計相對于膠體磨和分散機的串聯而言更具優勢。串聯的話存在時間差,當物料通過膠體磨之后,磨細后物料會出現抱團的現象,再經過分散機分散,效果不是很好。而GMD研磨分散機的話,物料磨細后

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  • GMD2000/4轉移因子研磨分散機
    轉移因子研磨分散機

    【SGN轉移因子研磨分散機的簡介】 高剪切研磨分散機轉移因子膠體磨是專門為膠體溶液生產所設計,特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。GM2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改

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  • GMD2000/4高剪切除草劑研磨分散機
    高剪切除草劑研磨分散機

    高剪切除草劑研磨分散機的一般生產工藝 通常是由液相構成,其中懸浮著活性劑。配方中還包括一些添加劑,如濕化劑、懸浮劑、消泡劑等。粉體和液體混合之后,再進一步研磨,以達到要求的細度(通常為5 um以下,用于噴涂),產品也有可能直接送入噴霧干燥機。

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  • GMD2000/4農藥水乳劑研磨分散機
    農藥水乳劑研磨分散機

    SGNGMD2000系列農藥水乳劑研磨分散機特別適合于膠體溶液、超細懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外,GMD在摩擦狀態下工作,也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉使溶液出現渦流,因此可以達到更好的研磨分散的效果。GMD2000整機采用幾何機構的研磨定轉子,的表面處理和優質材料,可以滿足不同行業的多種需求。

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  • GMD2000/4腸溶性包衣高速研磨分散機
    腸溶性包衣高速研磨分散機

    腸溶性包衣高速研磨分散機,包衣生產設備納米二氧化鈦藥品包衣高速研磨分散機,胃溶性包衣高速研磨分散機,水溶性包衣高速研磨分散機,醇溶性包衣高速研磨分散機,醫藥級二氧化鈦高速研磨分散機,納米二氧化鈦醫藥用高速研磨分散機,藥品包衣高速研磨分散機

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  • GM2000/4腸溶性包衣研磨分散機
    腸溶性包衣研磨分散機

    腸溶性包衣研磨分散機GM2000采用了三級錯齒磨頭定轉子,磨頭定轉子間隙在0.2-0.7之間,間隙可通過調節高速研磨機本身的調節柄來調節設備間隙,在轉速不變的情況下,間隙越小,速膠體磨研磨、分散效果會越好。故名思意,高速膠體磨有著非比尋常的轉速,SGN工程師們通過改變皮帶輪的傳動比例,使原本只有3000rpm的電機,經過傳動后設備轉速可以高達9000rpm。實踐證明,在磨頭定轉子間隙不變的情況下,

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  • GMD2000濕法超細研磨機
    濕法超細研磨機

    SGN濕法超細研磨機的特點 ①線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。 ②定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 ③定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離 ④在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 ⑤高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

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